加碼SiC,華為申請(qǐng)晶體生長(zhǎng)專利

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 04 月 10 日 18:20 | 分類 企業(yè)

天眼查資料顯示,4月5日,華為技術(shù)有限公司公開一項(xiàng)“擋板、芯片、SiC晶體、晶體生長(zhǎng)爐和生長(zhǎng)方法”專利,申請(qǐng)公布號(hào)為CN117822097A,申請(qǐng)日期為2022年9月28日。

source:天眼查

該專利摘要顯示,本申請(qǐng)實(shí)施例公開了一種擋板、芯片、SiC晶體、晶體生長(zhǎng)爐和生長(zhǎng)方法,涉及碳化硅晶體技術(shù)領(lǐng)域,有效改善晶體質(zhì)量。具體方案為:于晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)設(shè)置擋板,該擋板的通道可改變爐體內(nèi)氣相源的運(yùn)動(dòng)方向,將氣相源的運(yùn)動(dòng)方向改變?yōu)樾毕蛏?,使氣相源朝向籽晶的小面運(yùn)動(dòng)。本申請(qǐng)實(shí)施例可提高晶體的生長(zhǎng)速度,提高晶體的厚度和質(zhì)量,降低微管密度。另外,選用低密度石墨作為擋板的材料,當(dāng)通道被封堵后,低密度石墨內(nèi)的孔隙可以供氣體通過,能進(jìn)一步降低晶體內(nèi)包裹物的含量,提高晶體質(zhì)量。

目前,華為正在全面布局SiC產(chǎn)業(yè)。產(chǎn)品方面,2023年4月,華為舉辦了智能電動(dòng)新品發(fā)布會(huì),發(fā)布了搭載高效SiC技術(shù)的“DriveONE新一代超融合黃金動(dòng)力平臺(tái)”。

據(jù)華為介紹,DriveONE新一代超融合黃金動(dòng)力平臺(tái)是業(yè)界最高效率量產(chǎn)高壓同步總成解決方案,基于高效SiC模組以及華為電機(jī)仿真尋優(yōu)平臺(tái),華為打造92%CLTC效率的業(yè)界最高效的CLTC工況動(dòng)力總成,相對(duì)于業(yè)界同類方案,效率領(lǐng)先1.5個(gè)百分點(diǎn);這款平臺(tái)同時(shí)支持750V和900+V雙電壓適配,在250A的快充樁上就可以實(shí)現(xiàn)極速4C充電,7.5分鐘把電池SOC從30%提升到80%,續(xù)航增加250km。

合作方面,2023年11月,華為攜手奇瑞發(fā)布的智界S7電動(dòng)汽車,就搭載了全新一代DriveONE 800V高壓SiC黃金動(dòng)力平臺(tái)。據(jù)悉,全新一代DriveONE 800V高壓SiC黃金動(dòng)力平臺(tái)搭載了行業(yè)內(nèi)量產(chǎn)最高轉(zhuǎn)速的電機(jī),這款電機(jī)的每分轉(zhuǎn)速高達(dá)22000轉(zhuǎn)。

通過采用高壓SiC技術(shù),華為將電機(jī)的最高效率提升到了98%。這意味著在相同的電量消耗下,華為的電機(jī)能夠提供更高的動(dòng)力輸出,從而為車輛帶來更好的加速性能和行駛效率。

投資方面,據(jù)集邦化合物半導(dǎo)體不完全統(tǒng)計(jì),截至目前,華為通過旗下華為哈勃投資了SiC襯底企業(yè)山東天岳、天科合達(dá),外延企業(yè)天域半導(dǎo)體、瀚天天成,設(shè)備相關(guān)企業(yè)特思迪,材料相關(guān)企業(yè)德智新材,華為投資對(duì)象遍及SiC全產(chǎn)業(yè)鏈。(集邦化合物半導(dǎo)體Zac整理)

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